X射線光電子能譜儀產品及廠家
scalab 250xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學價態以及相對含量。結合離子刻蝕技術還可以獲得元素及化學態深度分布信息；通過成像技術可以獲得元素及化學態的面分布信息；利用微聚焦x射線源或電子束可以獲得微區表面信息。在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領域有廣泛應用。本儀器以x射線光電子能譜為主要功能，還帶有俄歇電子能譜、紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離
更新時間:2025-09-19
phi quantera ii 掃描x射線光電子能譜儀（xps）是ulvac-phi公司以在業界獲得非常卓越成績的quantum 2000和quantera sxm之上延申后所zui新研發的xps分析儀器，其超卓技術包括有：一個獨創微集中掃描的x射線來源，專利的雙光束的電荷中和技術，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行xps的深度分析，一個五軸精密的樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂，與及一個完全自動化且可支持互聯網遠程控制的儀器操作平臺。quantera ii 掃描x射線光電子能譜儀（xps）增加了這些技術性能和生產力，再一次提供了zui高性能的xps系統，以滿足您當前和未來的xps需要。
更新時間:2025-09-19
x 射線光電子能譜（xps）是材料科學和發展的領域中最廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用x射線束（一般會使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能，再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能，從而也就可知道樣品表面是何物質。the phi 5000 versaprobe ii (vp-ii) 能提供高性能的微區光譜，化學成像，二次電子成像，其最小的x射線束光柵掃描直徑約為10微米。x射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設定，從而達到最好的空間解釋度與最高的靈敏度。vp-ii 可以輕易的對不管是導體或非導體獲取化學態的成像 或是離子濺射的深度分析，樣品例子如催化劑，金屬和電子設備，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和組織等等。
更新時間:2025-09-19
賽默飛 escalab 250xi x射線光電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學價態以及相對含量。結合離子刻蝕技術還可以獲
更新時間:2025-09-19
phi 5000 versaprobe ii x射線光電子能譜儀是材料科學和發展的領域中zui廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用x射線束（一般會使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導致讓光電
更新時間:2025-09-19
賽默飛 k-alpha+ x射線光電子能譜儀系統是一款*集成的x射線光電子能譜。獲獎的版k-alpha平臺特征光譜性能顯著提高，提供更高計數率和更快分析時間，改善化學探測能力。分析選配件包括一個角分辨
更新時間:2025-09-19
thermo scientific k-alpha，一體化結構的x射線光電子能譜儀（xps）。性能先進、高性價比、操作簡便、結構緊湊，是現代實驗室和企業的shou選儀器。采用全新的生產技術,在k-alpha的設計中集合了所有這些優勢。k-alpha x射線光電子能譜儀
更新時間:2025-09-19
利用 thermo scientific? theta probe 角分辨 x 射線光電子能譜儀系統采集角分辨能譜，無須傾斜樣品即可無損表征超薄薄膜新型技術產品所依賴的是固體近表面區域的設計。對于這種類型的材料，包括自組裝單層、表面改性聚合物和半導體設備，確定表面幾納米的成分是關鍵。通過使用平行角分辨 xps (parxps) 和能夠提供準確精密結果的 avantage 數據系統的先進軟件，theta probe x 射線光電子能譜儀系統能夠幫助您做到這一點。描述
更新時間:2025-09-19
在開發新材料及薄膜制程上，為了有助于了解材料組成間的相互作用及解決工藝流程的問題，材料組成或薄膜迭層的深度分析是非常重要的。phi 4700使用了aes分析技術為基礎，搭配靈敏度半球型能量分析器、10 kv lab6掃瞄式電子槍、5 kv浮動柱狀式ar離子槍及高精密度自動樣品座。針對例行性的俄歇縱深分析、微區域的故障分析，提供了全自動與及高經濟效益的解決方法。phi 4700是建基于ulvac-phi公司的高性能phi 700xi俄歇掃描納米探針。它提供了高度自動化，低成本、高效益的方案進行例行俄歇深度分析和微米范圍的故障分析。 phi 4700可以輕易的配備上互聯網的設備，以供遠程操作或監控之用
更新時間:2025-09-19
thermo scientific? nexsa? x 射線光電子能譜儀 (xps) 系統能提供全自動、高通量的多技術分析，并可保持研究級結果的高質量水平。iss、ups、reels、拉曼等多種分析技術集于一身，用戶因此能夠進行真正意義上的相關性分析，從而為微電子、超薄膜、納米技術開發以及許多其他應用進一步取得進展釋放潛能。nexsa 能譜儀具有靈活性，可zui大限度地發揮材料潛能。在使結果保持研究級質量水平的同時，以多重整合技術選項的形式提供靈活性，從而實現真正意義上的相關性數據分析和高通量。標準化功能催生強大性能：絕緣體分析
更新時間:2025-09-19
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