其它產品及廠家
長期供應德國gte進口應急電源nxv ii - 24v das notstromger?t nxv ii ist eine hochwertige, mikroprozessorgesteuerte unterbrechungsfreie strom- versorgung, die die batteriekapazit?t nach en81-28:2003 überwacht.
更新時間:2025-09-26
深圳銷售德國ptl f26.10冷彎曲測試儀ptl contact pressure measuring deviceto determine the contact pressure of side earthing contacts of two-pole socket-outlets 10/16 a 250 v
更新時間:2025-09-26
專業代理德國gte商業車庫門沖擊力測試儀kmg-2000-g它是測量在門和大門的關閉邊緣靜態和動態的力易于操作照明lcd顯示器標準中所規定的測量值和極限值圖形顯示機械過載保護電池供電 (約 100 小時的操作，不需要充電）自動平均測量可能自動啟動內部存儲器為500測量usb 接口的數據傳輸
更新時間:2025-09-26
應用德國激光技術，微創治療靜脈曲張，也就是老爛腿。正規醫療器械廠家全國供應，產品性能穩定，療效好。德國evlt微創技術 國產靜脈曲張激光治療儀廠家供貨價，超高性價比高，廠家給您出廠價格。全國有很多三甲級別的醫院臨床應用。
更新時間:2025-09-26
光子治療儀是一種綠色療法，通過照射治療，沒有什么副作用。能給授權的光子治療儀廠家，正規醫療器械廠家，相關公司證件齊全，可給授權資料。產品技術參數有自身優勢，好招標到醫院。
更新時間:2025-09-26
寶山地磅維修上海周邊地磅更換傳感器價格 我們擁有專業的技術人員從事各類計量衡器／儀器的技術維修服務，并建立了專門的維修服務隊伍，能提供給客戶更好更及時的維修和售后服務。上海地區，我們承諾：1個電話您就可以解決問題，10分鐘內我們定會快速做出反應，1天內解決排除地磅故障
更新時間:2025-09-26
保定眾邦電氣有限公司是高新技術企業，有長期電力系統中性點接地電阻的生產經驗。生產的0.4kv～35kv的zb-tnr系列變壓器中性點接地電阻柜是電網中采用中性點經電阻接地的專用成套裝置。產品具有精度高、線性度好、運行可靠、安裝方便、外形美觀等特點，該產品已用于國家許多重點工程。
更新時間:2025-09-26
hl-3消火栓測壓接頭 消火栓系統試水檢測裝置 消火栓測壓儀1.6級，消火栓系統試水檢測裝置1.6級0-1.6mpa（消火栓測壓接頭）是北京朋利馳科技有限公司根據ga1157-2014研發生產用于檢測室內消火栓的靜水壓，出水壓力，并校核水槍充實水柱的專用裝置。
更新時間:2025-09-26
我公司根據多年從事消防行業經驗，依據《gb 16840.1-1997 電氣火災原因技術鑒定方法 第1部分宏觀法，第二部分剩磁法，第三部分成分分析法，第4部分金相法》研制的防火檢測和火災勘查箱。
更新時間:2025-09-26
智能型hmds烘箱，全自動hmds預處理系統預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加hmds功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。
更新時間:2025-09-26
hmds預處理系統，晶圓hmds烤箱 在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。
更新時間:2025-09-26
hmds烘箱，hmds預處理烘箱將hmds涂到樣品表面后，經烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變為疏水性，此疏水性能夠很好的與光刻膠結合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。
更新時間:2025-09-26
芯片無氧烘箱，可編程無氧烤箱：在工作時，工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時間:2025-09-26
氣相成底膜烤箱，hmds蒸氣淀積系統用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變為憎水性，增強表面的黏附性（hmds-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料
更新時間:2025-09-26
智能型hmds烘箱，全自動hmds預處理系統預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加hmds功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。
更新時間:2025-09-26
hmds鍍膜烤箱，hmds真空鍍膜系統預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加hmds功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。
更新時間:2025-09-26
無氧烤箱，氮氣烤箱工作室內充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧烤箱箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫療衛生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時間:2025-09-26
高溫無氧化烤箱，半導體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個箱體結構分為：膛體組件、箱架組件和熱風組件三個部分，膛體腔，內表面全鏡面設計，風道由左、右、后導風板與箱體內壁組合而成，膛體頂部有排風管道。
更新時間:2025-09-26
蒸汽老化試驗機，半導體蒸汽老化測試儀適用于電子連接器、半導體ic、晶體管、二極管、液晶lcd、芯片電阻電容、零組件產業電子零組件金屬接腳沾錫性試驗前的老化加速壽命時間試驗;半導體、被動組件、零件接腳氧化試驗。
更新時間:2025-09-26
pct高壓老化試驗機，半導體高壓加速老化試驗箱是利用加壓的飽和蒸汽對產品進行加速老化的設備，適用于電子，表面處理，磁性材料，ic，半導體，pcb，包裝材料等各個相關行業使用。
更新時間:2025-09-26
ic氮氣烤箱，光刻間用烤箱工作室內充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧烤箱箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫療衛生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時間:2025-09-26
led專用烤箱，led光電烤箱四門精密烤箱采用獨特的結構設計，外形美觀，內部結構合理。外殼采用1.5mm厚冷軋鋼板折彎而成，表面高溫噴塑烤漆處理（環保戶外粉），耐腐蝕，防生銹，烤箱上下平均分成四層，每層配有獨立打開的小門，每層烤箱門板上裝有壹個拉手，方便每層托盤可獨立拿出，門邊四條， 使爐外溫度不燙手。
更新時間:2025-09-26
pi膠高溫固化烤箱，半導體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應用于微電子工業中的半導體器件表面的保護、密封、應力緩沖保護和半導體器件表面鈍化、內涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時對器件的引線、焊點等薄弱部位具有增固加強的作用。所以，pi的固化工藝非常重要。
更新時間:2025-09-26
led氣相成底膜處理系統，氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進行,這種方法可以實現批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮氣作為載氣將hmds蒸氣通入腔室中,達到預先設定的壓力對晶片進行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮氣到常壓。js-hmds預處理系統對預處理過程的工作溫度、工作真空度、處理時間、處理時
更新時間:2025-09-26
silicon wafer hmds烤箱，hmds oven通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-09-26
hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.
更新時間:2025-09-26
晶圓烤箱，超潔凈烤箱工作室內充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧烤箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫療衛生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時間:2025-09-26
軟烘烤箱，硅片烤箱工作室內充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧烤箱主要用于：晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫療衛生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時間:2025-09-26
在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻 的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會 侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕 容易發生側向腐蝕。
更新時間:2025-09-26
勻膠機，可程式勻膠機用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩定和啟動迅速等優點，并能保證半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時間:2025-09-26
無氧烘箱，智能雙層無氧烘箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環境，特別適合半導體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求，
更新時間:2025-09-26
真空無氧烘箱，高溫無氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導體封裝、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-09-26
全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導體,led,mems,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時間:2025-09-26
200kg黑蒜機，black garlic machine，the black garlic fermentation equipment adopts the enzymatic reaction fermentation black garlic processing method, and the enzymatic fermentation is continuously carried
更新時間:2025-09-26
全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導體,led,mems,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時間:2025-09-26
真空無氧烘箱，高溫無氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導體封裝、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-09-26
無氧烘箱，智能雙層無氧烘箱應用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環境，特別適合半導體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求，
更新時間:2025-09-26
智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.用于企業生產、科研或高校實驗室等工藝。
更新時間:2025-09-26
最新產品
- Boc-NH-PEG-COOH (MW 2000) 2025/9/26 20:44:34
- N3-PEG-SCM (MW 3400) 2025/9/26 20:44:09
- N3-PEG-SCM (MW 1000) 2025/9/26 20:43:45
- N3-PEG-SCM (MW 40000) 2025/9/26 20:43:21
- N3-PEG-SCM (MW 20000) 2025/9/26 20:42:57
- N3-PEG-SCM (MW 10000) 2025/9/26 20:42:33
- N3-PEG-SCM (MW 5000) 2025/9/26 20:42:09
- N3-PEG-SCM (MW 2000) 2025/9/26 20:41:45
- mPEG-CM (MW 3400) 2025/9/26 20:41:21
- mPEG-CM (MW 40000) 2025/9/26 20:40:57
- mPEG-CM (MW 20000) 2025/9/26 20:40:33
- mPEG-CM (MW 10000) 2025/9/26 20:40:09
- mPEG-CM (MW 5000) 2025/9/26 20:39:45
- mPEG-CM (MW 1000) 2025/9/26 20:39:21
- 4-Arm-PEG-Azide (MW 3400) 2025/9/26 20:38:57
- 4-Arm-PEG-Azide (MW 2000) 2025/9/26 20:38:33
- 4-Arm-PEG-Azide (MW 1000) 2025/9/26 20:38:09
- 4-Arm-PEG-Azide (MW 600) 2025/9/26 20:37:45
- 4-Arm-PEG-Azide (MW 400) 2025/9/26 20:37:20
- 4-Arm PEG-Azide (MW 40000) 2025/9/26 20:36:56
- 4-Arm PEG-Azide (MW 20000) 2025/9/26 20:36:32
- 4-Arm PEG-Azide (MW 10000) 2025/9/26 20:36:08
- 4-Arm PEG-Azide (MW 5000) 2025/9/26 20:35:44
- 4-Arm PEG-alkyne (MW 40000) 2025/9/26 20:35:20
- 4-Arm PEG-alkyne (MW 20000) 2025/9/26 20:34:56
- 4-Arm PEG-alkyne (MW 10000) 2025/9/26 20:34:32
- 4-Arm PEG-alkyne (MW 5000) 2025/9/26 20:34:08
- 4-Arm PEG-SCM (MW 40000) 2025/9/26 20:33:44
- 4-Arm PEG-SCM (MW 20000) 2025/9/26 20:33:20
- 4-Arm PEG-SCM (MW 10000) 2025/9/26 20:32:56