其它產(chǎn)品及廠家
脫模劑蒸鍍機(jī)，脫模劑鍍膜烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體，光電、電子行業(yè)硅片、砂紙或石英硬模板等材料。
更新時(shí)間:2025-09-26
智能型hmds烘箱，全自動(dòng)hmds預(yù)處理系統(tǒng)預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動(dòng)吸取添加hmds功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-09-26
hmds鍍膜烤箱，hmds真空鍍膜系統(tǒng)預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動(dòng)吸取添加hmds功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。
更新時(shí)間:2025-09-26
高溫?zé)o氧化烤箱，半導(dǎo)體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2025-09-26
蒸汽老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體蒸汽老化測(cè)試儀適用于電子連接器、半導(dǎo)體ic、晶體管、二極管、液晶lcd、芯片電阻電容、零組件產(chǎn)業(yè)電子零組件金屬接腳沾錫性試驗(yàn)前的老化加速壽命時(shí)間試驗(yàn);半導(dǎo)體、被動(dòng)組件、零件接腳氧化試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-09-26
pct高壓老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱是利用加壓的飽和蒸汽對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行加速老化的設(shè)備，適用于電子，表面處理，磁性材料，ic，半導(dǎo)體，pcb，包裝材料等各個(gè)相關(guān)行業(yè)使用。
更新時(shí)間:2025-09-26
ic氮?dú)饪鞠洌饪涕g用烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧烤箱箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-09-26
led專用烤箱，led光電烤箱四門精密烤箱采用獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，外形美觀，內(nèi)部結(jié)構(gòu)合理。外殼采用1.5mm厚冷軋鋼板折彎而成，表面高溫噴塑烤漆處理（環(huán)保戶外粉），耐腐蝕，防生銹，烤箱上下平均分成四層，每層配有獨(dú)立打開的小門，每層烤箱門板上裝有壹個(gè)拉手，方便每層托盤可獨(dú)立拿出，門邊四條， 使?fàn)t外溫度不燙手。
更新時(shí)間:2025-09-26
pi膠高溫固化烤箱，半導(dǎo)體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)中的半導(dǎo)體器件表面的保護(hù)、密封、應(yīng)力緩沖保護(hù)和半導(dǎo)體器件表面鈍化、內(nèi)涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對(duì)改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時(shí)對(duì)器件的引線、焊點(diǎn)等薄弱部位具有增固加強(qiáng)的作用。所以，pi的固化工藝非常重要。
更新時(shí)間:2025-09-26
led氣相成底膜處理系統(tǒng)，氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個(gè)集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進(jìn)行,這種方法可以實(shí)現(xiàn)批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮?dú)庾鳛檩d氣將hmds蒸氣通入腔室中,達(dá)到預(yù)先設(shè)定的壓力對(duì)晶片進(jìn)行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮?dú)獾匠骸s-hmds預(yù)處理系統(tǒng)對(duì)預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、工作真空度、處理時(shí)間、處理時(shí)
更新時(shí)間:2025-09-26
silicon wafer hmds烤箱，hmds oven通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-09-26
hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.
更新時(shí)間:2025-09-26
晶圓烤箱，超潔凈烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧烤箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-09-26
軟烘烤箱，硅片烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧烤箱主要用于：晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。
更新時(shí)間:2025-09-26
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻 的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì) 侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕 容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。
更新時(shí)間:2025-09-26
勻膠機(jī)，可程式勻膠機(jī)用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時(shí)間:2025-09-26
無(wú)氧烘箱，智能雙層無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求，
更新時(shí)間:2025-09-26
真空無(wú)氧烘箱，高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預(yù)處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2025-09-26
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī)，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-09-26
抗粘劑蒸鍍機(jī)，抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。
更新時(shí)間:2025-09-26
pi固化用厭氧烘箱，聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時(shí)需要注意的問(wèn)題是厚度控制和亞胺化處理。
更新時(shí)間:2025-09-26
pi固化專用厭氧烘箱，聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時(shí)需要注意的問(wèn)題是厚度控制和亞胺化處理。
更新時(shí)間:2025-09-26
200kg黑蒜機(jī)，black garlic machine，the black garlic fermentation equipment adopts the enzymatic reaction fermentation black garlic processing method, and the enzymatic fermentation is continuously carried
更新時(shí)間:2025-09-26
抗粘劑蒸鍍機(jī)，抗粘層鍍膜機(jī)在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。
更新時(shí)間:2025-09-26
全氟辛基三氯硅烷涂膠機(jī)，抗粘劑pfts真空烘箱主要用于納米壓印光刻（nil）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中hmds增粘劑涂膠；以及功率半導(dǎo)體,led,mems,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
更新時(shí)間:2025-09-26
真空無(wú)氧烘箱，高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預(yù)處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2025-09-26
無(wú)氧烘箱，智能雙層無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、pcb板烘烤、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求，
更新時(shí)間:2025-09-26
智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).用于企業(yè)生產(chǎn)、科研或高校實(shí)驗(yàn)室等工藝。
更新時(shí)間:2025-09-26
勻膠機(jī)，可程式勻膠機(jī)用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ito導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。
更新時(shí)間:2025-09-26
適用于少量粉體的分。篩子可按3～5層來(lái)使用。使用小型篩子，分后可按篩子分別計(jì)量。
更新時(shí)間:2025-09-26
hpn系列是一種采用了高精度斜齒輪，實(shí)現(xiàn)靜音、輕量小型,且交貨期短、低價(jià)格的精密行星齒輪減速機(jī)。工業(yè)用機(jī)械領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的齒輪箱系列又新增了hpn系列，產(chǎn)品種類更加豐富。在gearhead型減速機(jī)中選擇hpn系列，可以提升裝置的耐久性和可靠性。
更新時(shí)間:2025-09-26
apex減速機(jī)adr系列通過(guò)螺旋錐齒輪進(jìn)行90度輸入。它具有極短的剛性外殼，并且與任何電機(jī)完全兼容。高扭矩，低背隙緊湊螺旋，一體式行星保持架設(shè)計(jì)提供當(dāng)今市場(chǎng)上最堅(jiān)固，高準(zhǔn)確的旋轉(zhuǎn)法蘭設(shè)計(jì)。高精度，扭轉(zhuǎn)力，力矩負(fù)載能力。?
更新時(shí)間:2025-09-26
基于可擴(kuò)展技術(shù)的強(qiáng)大功能，compax3系列驅(qū)動(dòng)器可以解決各種應(yīng)用類型-從基本模擬轉(zhuǎn)矩/速度和步進(jìn)/方向控制到具有電子cam控制和plcopen功能模塊的智能驅(qū)動(dòng)器，在符合iec 61131-3的標(biāo)準(zhǔn)下，還可以使用codesys開發(fā)環(huán)境進(jìn)行編程。compax3系列驅(qū)動(dòng)器支持同步，異步，線性和轉(zhuǎn)矩電機(jī)技術(shù)，以及各種反饋選項(xiàng)。
更新時(shí)間:2025-09-26
派克fl20-s系列是一款高性能的伺服驅(qū)動(dòng)器，尤其適用薄膜生產(chǎn)線以及類似的應(yīng)用。全閉環(huán)控制響應(yīng)頻率高達(dá)1.2khz，反饋有增量編碼器，juedui值編碼器和旋轉(zhuǎn)變壓器可選。fl20-s內(nèi)置rs485/232上位機(jī)檢測(cè)口。提供canopen和ethercat通訊卡選項(xiàng)。和派克標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)置ehtercat的pac控制器一起配置可以提供包括電機(jī)在內(nèi)的整體方案。
更新時(shí)間:2025-09-26
派克pv系列行星齒輪減速機(jī)在經(jīng)濟(jì)的外殼中實(shí)現(xiàn)了功率與多用性結(jié)合。這一個(gè)系列包含眾多選擇，包括各種輸出法蘭涵括派克bayside px, alpha lp,neugart ple, stober pe及標(biāo)準(zhǔn)nema減速機(jī)。
更新時(shí)間:2025-09-26
shg/shf系列組合型是一種以組件型為核心，易于操作的組合化產(chǎn)品。內(nèi)置用于直接支撐(主軸承)外部負(fù)載的精密、具有高剛性的交叉滾子軸承。
更新時(shí)間:2025-09-26
csg/csf系列緊湊簡(jiǎn)潔的設(shè)計(jì)，高轉(zhuǎn)矩容量，高剛性，無(wú)齒隙，優(yōu)良的定位精度和旋轉(zhuǎn)精度，輸入輸出同軸。主要應(yīng)用于工業(yè)機(jī)器人和半導(dǎo)體設(shè)備，適合需要高精度、高速化和高負(fù)載容量的場(chǎng)合。由于其高剛性、無(wú)齒隙的特性，特別適合于需要精密定位和重復(fù)定位精度要求嚴(yán)格的系統(tǒng)，如精密裝配、半導(dǎo)體制造和精密機(jī)床。
更新時(shí)間:2025-09-26
網(wǎng)絡(luò)對(duì)講終端na714/na724，采用了arm+dsp架構(gòu)，接收網(wǎng)絡(luò)音頻流，實(shí)時(shí)解碼播放。它集網(wǎng)絡(luò)對(duì)講、網(wǎng)絡(luò)廣播、網(wǎng)絡(luò)監(jiān)聽，虛擬串口、i/o端口、端口對(duì)傳等功能于一身，可作為網(wǎng)絡(luò)數(shù)字廣播的播放終端，用于學(xué)校，機(jī)場(chǎng)，廣場(chǎng)等需要場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2025-09-26
網(wǎng)絡(luò)廣播終端nm803配置麥克風(fēng)接口輸出，2w揚(yáng)聲器，可作為網(wǎng)絡(luò)對(duì)講話筒，向網(wǎng)絡(luò)上的終端播放語(yǔ)音廣播。也可作為對(duì)講終端，呼叫遠(yuǎn)端并與遠(yuǎn)端進(jìn)行對(duì)講。
更新時(shí)間:2025-09-26
專業(yè)尋呼主機(jī)外形桌面式設(shè)計(jì)，采用10.1寸高清ips屏幕，分辨率1280*800
更新時(shí)間:2025-09-26
720p高清可視攝像頭，在可視對(duì)講同時(shí)可實(shí)現(xiàn)24小時(shí)監(jiān)控使用
更新時(shí)間:2025-09-26
專為平安城市報(bào)警求助對(duì)講使用，適用于戶外的緊急求助對(duì)講
更新時(shí)間:2025-09-26
農(nóng)業(yè)診斷控制系統(tǒng)，用于農(nóng)業(yè)社會(huì)化服務(wù)的智能平臺(tái)，并匯集了ai病蟲害識(shí)別、農(nóng)業(yè)專家線上問(wèn)診服務(wù)、實(shí)名認(rèn)證以及農(nóng)業(yè)領(lǐng)域內(nèi)互聯(lián)網(wǎng)化服務(wù)等功能于一體的多功能智能設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-09-26
熊類智能循環(huán)驅(qū)逐裝置，支持動(dòng)物識(shí)別及入侵報(bào)警，支持吊車、塔吊、推土機(jī)等施工機(jī)械識(shí)別，支持異物檢測(cè)，支持山火、煙霧識(shí)別
更新時(shí)間:2025-09-26
排水管網(wǎng)水質(zhì)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)由前端傳感器、數(shù)據(jù)采集控制單元、數(shù)據(jù)傳輸單元，后端數(shù)據(jù)接收服務(wù)、環(huán)境監(jiān)測(cè)控制平臺(tái)及數(shù)據(jù)處理分析應(yīng)用功能組成。
更新時(shí)間:2025-09-26
光伏電站天空攝像儀 ，該設(shè)備擁有220°超大可視角度，通過(guò)iot智能網(wǎng)絡(luò)技術(shù)，能夠把實(shí)時(shí)獲取的圖像信息和氣象數(shù)據(jù)傳輸?shù)胶蠖擞?jì)算中心，數(shù)據(jù)經(jīng)質(zhì)控、ai圖像識(shí)別模型處理后，將實(shí)時(shí)圖像數(shù)據(jù)、云的覆蓋率、透光率及附加的天氣數(shù)據(jù)通過(guò)多種形式提供給用戶終端。
更新時(shí)間:2025-09-26
最新產(chǎn)品
- 2-(Acetylamino)-2-deoxy-4-O-β-D-galactopyranosyl-D-galactose 2025/9/27 1:33:05
- C.I. Acid yellow 3 (Standard) 2025/9/27 1:32:38
- C.I. Acid yellow 3 2025/9/27 1:32:14
- 2,4-Dimethyl-1,3-dioxane 2025/9/27 1:31:50
- Tetrahydro-2,5-dioxo-3-furansulfonic acid, sodium 2025/9/27 1:31:26
- D,L-Tryptophanamide hydrochloride 2025/9/27 1:31:02
- [Tyr4]-Bombesin 2025/9/27 1:30:38
- 2-Methyl-3-(methyldisulfanyl)furan-d3 2025/9/27 1:30:13
- Methyl 4,6-O-benzylidene-2-deoxy-α-D-erythro-hexopyranosid-3-ulose oxime 2025/9/27 1:29:49
- 2-Methylbutyl acetate-d3 2025/9/27 1:29:25
- 2-Methylbutyl acetate-13C2 2025/9/27 1:29:01
- β-D-Galactopyranosylamine 2025/9/27 1:28:37
- ATBTA-Eu3+ 2025/9/27 1:28:13
- Ethyl 4-(((benzyl(4-(ethoxycarbonyl)phenyl)amino)methylene)amino)benzoate-d5 2025/9/27 1:27:49
- 4-Aminophenyl 1-thio-β-D-glucopyranoside 2025/9/27 1:27:25
- PIPPS 2025/9/27 1:27:01
- Phenylmethyl 4,6-O-(phenylmethylene)-β-D-glucopyranoside 2025/9/27 1:26:37
- Betamethasone 17-propionate-d4 2025/9/27 1:25:49
- 1,1-Diethoxyoctane-d10 2025/9/27 1:25:25
- 1,1-Diethoxynonane-d10 2025/9/27 1:25:00
- MSHFBA 2025/9/27 1:24:36
- Naphthol AS-D acetate 2025/9/27 1:24:12
- 3-Nitrophenyl α-D-galactopyranoside 2025/9/27 1:23:47
- 1,6-Anhydro-3,4-O-(1-methylethylidene)-β-D-galactopyranose 2025/9/27 1:23:23
- Phenolphthalein (disodium), 95% 2025/9/27 1:22:59
- Acid green 3 2025/9/27 1:22:35
- Iodophenol blue 2025/9/27 1:22:11
- Woodward’s Reagent K 2025/9/27 1:21:47
- 1-Naphthalenyl β-D-galactopyranoside 2025/9/27 1:21:22
- Methyl-4,6-O-benzylidene-α-D-mannopyranoside 2025/9/27 1:20:58