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在高真空環境中,我們發明了一種創新的in-line sputter生產技術,實現了高大量生產率和出色的品質。這款1carrier/20sheet(a4 size)產品采用了both side sputtering工藝,不僅提高了生產效率,還確保了優異的光學性能,透過率可達25%以上。
更新時間:2025-09-09
本裝置在真空狀態中對pet film，以ito或metal coating的設備, heating, plasma etching, sputter工序可以.
更新時間:2025-09-09
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