激光共聚焦顯微鏡產品及廠家
中圖儀器vt6000系列3d共聚焦顯微鏡基于光學共軛共焦原理，結合精密縱向掃描，以在樣品表面進行快速點掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點并重建出3d真彩圖像，從而進行分析的精密光學儀器，一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等參數。
更新時間:2025-09-18
vt6000國產共聚焦顯微鏡微觀形貌觀察基于光學共軛共焦原理，結合精密縱向掃描，以在樣品表面進行快速點掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點并重建出3d真彩圖像，從而進行分析。vt6000國產共聚焦顯微鏡微一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等參數。
更新時間:2025-09-18
中圖儀器vt6000共聚焦激光掃描顯微鏡基于光學共軛共焦原理，結合精密縱向掃描，以在樣品表面進行快速點掃描并逐層獲取不同高度處清晰焦點并重建出3d真彩圖像，從而進行分析的精密光學儀器，一般用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、溝槽等參數。
更新時間:2025-09-18
vt6000系列共聚焦顯微鏡以共聚焦技術為原理，以轉盤共聚焦光學系統為基礎，結合高穩定性結構設計和3d重建算法，共同組成測量系統。是一款用于對各種精密器件及材料表面進行微納米測量的檢測儀器。
更新時間:2025-09-18
vt6000系列共聚焦激光顯微鏡在結構復雜且反射率低的表面3d微觀形貌重構與檢測方面具有不俗的表現。基于針孔點光源的共軛共焦原理，其依托弱光信號解析算法可以完整重建出近70°陡峭的復雜的結構形狀，解決電子產品中一些光學薄膜表面存在一些特殊的微結構(這些結構表現為窄而深的“v形”、“金字塔”)測量難點。
更新時間:2025-09-18
在相同物鏡放大的條件下，vt6000共聚焦成像顯微鏡系統所展示的圖像形態細節更清晰更微細，橫向分辨率更高。更擅長微納粗糙輪廓的檢測，能夠提供色彩斑斕的真彩圖像便于觀察。
更新時間:2025-09-18
3d白光干涉共焦顯微鏡，集成共聚焦的橫向分辨率和白光干涉儀的縱向分辨率，可快速、準確的獲取高精度表面三維形貌信息，并進行高精度測量和數據分析。
更新時間:2025-09-18
徠卡三維共聚焦干涉顯微鏡dcm8產品特點：leica dcm8采用了*新的非接觸式三維光學表面測量技術。設計用于提高您的工作效率，它是一款融合了高清晰度共聚焦顯微鏡和干涉測量技術優點的多功能雙核系統。一鍵模式選擇，精密軟件、無移動部件的高分辨率共聚焦掃描技
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位stm-tem低溫電學測量系統,是在標準外形的透射電鏡樣品桿內加裝掃描探針控制單元,通過探針對單個納米結構進行操縱和電學測量。
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位高溫力學測量系統picofemto透射電鏡原位高溫力學測量系統,同時集成了力學測量模塊及mems芯片模塊,可以在對樣品1000 ℃加熱的同時進行定量的力學測量。
更新時間:2025-09-18
picofemto原位mems-stm-tem多場測量系統，原位透射電子顯微鏡實驗系統，使研究者可以在透射電子顯微鏡中構建一個可控的多場環境（包括力、熱、光、電等）
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位stm-tem光電一體測量系統,是在標準外形的透射電鏡樣品桿內加裝掃描探針控制單元,通過探針對單個納米結構進行操縱和電學測量,
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位stm-tem力電一體測量系統picofemto透射電子顯微鏡原位tem-stm測量系統是在標準外形的透射電鏡樣品桿內加裝掃描探針控制單元,通過探針對單個納米結構進行操縱和電學測量
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很低維護成本：設備配套的針尖制備系統可低成本制備針尖耗材。”爪-球“微動結構已實現模塊化量產，維護成本低；很大的用戶群：在國內擁有近200個高質量原位用戶，出口到歐美澳等地。每年，用戶會產出大量高質量研究成果。定期組織各類用戶交流活動，搭建學術平臺供用戶交流；成熟的技術支持網絡：在安徽、北京、東莞和上海擁有分公司，其他各地擁有若干技術支持網點，24小時提供技術支持。
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位mems氣氛加熱測量系統picofemto透射電鏡原位mems氣氛加熱測量系統，在透射電子顯微鏡中制造氣氛及高溫環境，實現1 bar & 800 ℃的端觀測條件。
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位mems液體電化學測量系統，采用全新的o圈輔助密封設計，更易封裝液體。實驗中，樣品被密封在很薄氮化硅薄膜覆蓋的液體池內，池內可以承載一個大氣壓。芯片電聯通外接電路，從而在電鏡中搭建一個液體-電化學測試環境。
更新時間:2025-09-18
picofemto透射電鏡原位mems低溫電學測量系統，是在標配mems芯片樣品桿上集成低溫控制模塊，實現低溫電學測量或全溫區測量功能。
更新時間:2025-09-18
您可輕松調用之的顯微鏡設置并通過獨特的軟件功能“保存和調用”(store and recall) 即時復制成像參數。適用于任何類型的樣本。一鍵式“智能自動化”可讓您輕松搞定重復性工作。這些具有記憶功能的顯微鏡可幫您減少培訓時間、改進工作流程和獲得出色的成像結果 — 始終如一。
更新時間:2025-09-18
徠卡正置式智能顯微鏡dm6m，全自動數字顯微鏡系列為用戶提供了很多所未有的解決方案，其中凸出的一點就是幫助用戶簡化顯微鏡的操作，使顯微鏡使用簡單，準確，得心應手。智能化的設計幫助您以簡單的操作完成復雜的調節程序，實現多種多樣的研究及診斷。
更新時間:2025-09-18
徠卡 dm8000 m 提供了全新的光學設計，如理想的 宏觀檢查模式 或者傾斜紫外光 (ouv, 隨檢uv 選擇) 不但提高了分辨能力，同時也增加了觀察 8’’/200 毫米直徑大樣品 時的產量。該機照明 基于新的 led 科技 ，一體化整合在顯微鏡機身上。 低熱輻射效應和一體化內置技術確保了顯微鏡四周空間具有 理想化的空氣環流。 led的超長使用壽命和低能耗特性大大降低了用戶 后的使用成本
更新時間:2025-09-18
該機照明 基于新的 led 科技 ，一體化整合在顯微鏡機身上。 低熱輻射效應和一體化內置技術確保了顯微鏡四周空間具有 理想化的空氣環流。 led的超長使用壽命和低能耗特性大大降低了用戶 后的使用成本.
更新時間:2025-09-18
如果您想要研究晶體結構，偏光顯微鏡將是您的佳選擇。無論是礦物和接合劑，我們的偏光顯微鏡都能幫助您觀察到感興趣的內容，完成您的研究或質量保證任務。
更新時間:2025-09-18
您需要一些組件來實現偏光研究目標。以下都是重要的組件：無應力光學部件，因為您需要確保觀測到的雙折射來自樣品而非光學部件led 照明至關重要，因為這種照明能夠均勻照亮樣品，并具有恒定的色溫偏光鏡幫助您看到雙折射，旋轉臺幫助您對準樣品和光軸您還需要用于對光軸進行錐光觀察的勃氏鏡和用于測量任務的補償器
更新時間:2025-09-18
如果您想要研究晶體結構，偏光顯微鏡將是您的佳選擇。無論是礦物、塑料和聚合物、藥物藥品或燃料和接合劑，我們的偏光顯微鏡都能幫助您觀察到感興趣的內容，完成您的研究或質量保證任務。令樣品呈現水晶般清晰透亮
更新時間:2025-09-18
徠卡dm750 m是一臺理想地適用于基礎材料應用的工業實驗室或材料科學的光學設備。它的萬能載物臺和反射光系統適合幾乎所有的樣品來獲取高品質圖像。
更新時間:2025-09-18
在競爭中保持先是您事業進的動力。無論您從事金相學、醫療設備制造還是微電子域，速度都顯得至關重要。您可根據自身需求定制徠卡這款高度模塊化的倒置式顯微鏡。它將徠卡優異的光學品質、豐富的對比度模式以及直觀易用的軟件集于一身，有助于加速您的工作流程。
更新時間:2025-09-18
徠卡dmilm倒置金相顯微鏡可配多種觀察筒,適應不同的要求與檢測觀察方式,操作簡單,檢測快捷高效。光學設計上采用先進的hcs無限遠軸向、徑向雙重色差校正光學技術，徹底消除雜散光等干擾因素；整個光學系統內, 對涉及成像質量的所有組件(物鏡、鏡筒透鏡、目鏡筒、目鏡、照相接口等) 進行優化組合，實現圖像分辨率和反差的優化，得到銳利圖像的同時追求高分辨率。
更新時間:2025-09-18
徠卡s系列體視顯微鏡包含s9系列體視顯微鏡s9e/s9d/s9i及s apo為了保持競爭力，持續改進生產、保持低缺陷率以及滿足客戶要求都具挑戰性。徠卡開發的s系列體視顯微鏡系列可助您戰勝這些挑戰
更新時間:2025-09-18
借助徠卡m80，操作者可以看到大型樣品的預覽圖，在顯微鏡下舒適工作，輕松采集重要細節的圖像。利用徠卡 m80的鎖定光圈，可為重復性任務創建可追蹤的測量步驟。
更新時間:2025-09-18
徠卡dvm6視頻顯微鏡，也是一款可單手操作的數碼顯微鏡：攝像頭像素高分辨率高達1000萬，圖像更清晰；16:1的變倍比，更換放大倍率更快；兩個物鏡可覆蓋所有倍率區間。
更新時間:2025-09-18
emspira 3數碼顯微鏡在同一個系統中結合了執行全面的目視檢查所需的所有功能，包括比較、測量和文檔共享。使用emspira 3數碼顯微鏡檢查不同的樣本，快速達到高要求、高通量的目標。 有助高效做出決定，獲益于文檔的安全存儲和輕松分享——無論您以獨立模式還是與計算機相連進行檢查。emspira 3數碼顯微鏡設計堅固，您可以在生產和實驗室環境中充滿信心地注于您的檢查工作。
更新時間:2025-09-18
可容納大樣品尺寸50*50*10mm，可獲得有效切割截面面積>4mm*1mm 三把離子槍，離子束能量1kev-10kev，切割速率150um/h離子束處理過程中樣品位置固定，無需偏轉運動，無投影效應，熱傳導性好
更新時間:2025-09-18
將目視檢驗和定性化學檢驗組合在一個工作步驟中，與使用傳統 sem/eds 檢驗相比， 測定微觀結構成分的時間可節省 90%。集成激光光譜功能可在一鐘內針對您在顯微鏡中看到的材料結構提供準確的化學元素圖譜。
更新時間:2025-09-18
顯微鏡物鏡是由若干個透鏡組合而成的一個透鏡組。組合使用的目的是為了克服單個透鏡的成像缺陷，提高物鏡的光學質量。顯微鏡的放大作用主要取決于顯微鏡物鏡，物鏡質量的好壞直接影響顯微鏡映像質量，它是決定顯微鏡的分辨率和成像清晰程度的主要部件，所以對顯微鏡物鏡的校正是很重要的。
更新時間:2025-09-18
徠卡顯微鏡攝像頭，包括徠卡顯微鏡攝像頭及其顯微成像系統，特別是其快速的實時圖像，反應時間短，分辨率高和鮮明對比的顯著。他們與幾乎所有的徠卡顯微鏡和宏觀儀兼容。
更新時間:2025-09-18
徠卡顯微系統的成像軟件與顯微鏡、數碼攝像頭以及配件組成完整的成像解決方案。易于使用和直觀的用戶界面，指導您完成工作流程的每一步，實現快速圖像采集或者復雜的業分析。
更新時間:2025-09-18
stellaris經過革命性的全新設計，使您能夠看到更多細節。 新的power hyd探測器系列、徹底優化的光束路徑和第二代白光激光器（wll）相結合，使您能夠獲得更準確的細節和可靠的數據，精確地驗證您的假設。使用我們獨特的tausense新技術，您將能夠在樣本中探索全新的維度。 tausense可立即提供基于壽命的信息，使您從實驗中獲得更多認識。
更新時間:2025-09-18
stellaris 8 falcon 為您的成像增加了一個新的對比維度，實現生物傳感以及跟蹤蛋白質之間的相互作用。現在，熒光壽命成像信息可用于stellaris 8 系統的所有模塊。
更新時間:2025-09-18
光子顯微鏡stellaris 8 dive（deep in vivo explorer）是一款光譜檢測可調的的多光子共聚焦顯微鏡。stellaris 8 dive讓您可自由調節檢測光譜：stellaris 8 dive光子顯微鏡配備可調光譜非退掃描探測系統4tune，為您提供無限的靈活性，并使您能夠開展新的多色體內深度成像實驗
更新時間:2025-09-18
sted是基于stellaris共聚焦平臺純光學超高分辨技術，結合快速熒光壽命采集系統實現xy軸30nm分辨率限。同時運用flim phasor技術可顯著降低sted激光能量，適用于活細胞超高成像。
更新時間:2025-09-18
thunder imager 采用徠卡創新的 computational clearing 技術， 能夠實時有效去除非焦平面的模糊信息，使 3d 樣品在基于攝像頭的熒光顯微鏡上依然能高質量地采圖。系統的高度靈敏度可確保低光毒性和低淬滅，全面優化條件以實現更高的圖像質量。
更新時間:2025-09-18
充滿信心地處理您的日常檢驗、記錄或工作，并保持更換的靈活性。在生命科學和工業應用中，徠卡 m 系列模塊化體視顯微鏡是多種多樣的任務之理想選擇。借助 m50、m60 和 m80，操作者可以看到大型樣品的預覽圖，在顯微鏡下舒適工作，輕松采集重要細節的圖像。
更新時間:2025-09-18
stellaris 8 crs為您提供了一個完全集成的系統， 讓您除了共聚焦熒光強度和壽命信息以外，還可以獲取和關聯各種生化與生理對比，從而充分利用實驗樣品。
更新時間:2025-09-18
徠卡顯微系統采用獨特的設計方法，使您可以在一個系統中進行共聚焦和光片成像， 實現柔和的單平面照明。 我們的數字光片系統(dls)采用垂直設計，可以集成到 stellaris 5 和 stellaris 8 系統中，也可以作為兩種系統的升。 這樣，您就可以受益于完整功能的共聚焦和易于使用的光片顯微鏡， 從而能夠進行更多樣化的研究。
更新時間:2025-09-18
特別的工作任務需要個性化解決方案：根據個人應用配置顯微鏡系統，切勿本末倒置。有了 leica m 系列體視顯微鏡，您可以選擇豐富的附件，讓您的顯微鏡切合應用需求，無論是材料測試還是生命科學研究。
更新時間:2025-09-18
leica em fsp（冷凍替代驅動器），是為leica em afs2特別設計的自動化試劑處理系統，可為冷凍替代和梯度變溫過程自動稀釋和更換試劑。樣品室內部和體視顯微鏡下都裝有led照明燈，觀察和定位樣品簡單方便。
更新時間:2025-09-18
artos 3d (序列斷層成像解決方案) 通過掃描電鏡 (sem) 自動創建并收集數以百計完全適用于序列斷層成像的連續切片帶。節省生物樣品制備和 sem 設置環節的時間和精力，因此您可快速獲得圖像來解答關鍵的研究問題。
更新時間:2025-09-18
配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機后，可以在全自動化系統中獲得可重復的結果，實現了一臺真空鍍膜機設備em ace200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。
更新時間:2025-09-18
最新產品
- 昆山工廠柴油供貨商，昆山0號柴油配送 2025/9/20 6:42:55
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