離子濺射儀產品及廠家
上海康儀離子計pxs-450/離子測定儀pxs-450由上海書培實驗設備有限公司為您提供，歡迎，www.shupeilab17.com，上海康儀離子計pxs-450/離子測定儀pxs-450產品介紹:
更新時間:2025-09-19
錳離子測試儀適用于大、中、小型水廠及工礦企業、生活或工業用水的鉻濃度檢測，以便控制水的錳達到規定的水質標準。
更新時間:2025-09-19
●供電電源電壓：ac 220v±15%/50hz或ac 110v±15%/60hz； ●工作電流：0.075a max speed； ●風量：120cfm； ●離子平衡電壓：≤±5v；
更新時間:2025-09-18
jc503-bfn臺式離子風機,專為局部區域而設計,具有體積超小,重量輕,安裝使用方便等特點,特別適用細小型空間,具有出眾的除靜電性能,防止靜電污染及破壞.是電子產品生產,維修等個人型靜電防護區域的理想設備.
更新時間:2025-09-18
離子風槍是一種高效的靜電消除裝置，通過高壓氣流將離子發生裝置所產生的大量正負離子迅速吹向所要除靜電的區域，中和物體上所積累的靜電電荷，同時高速離子氣流將靜電吸引的塵粒吹除，并阻止其再次吸引塵埃粒子；廣泛適用于電子裝配、徽電子制造、生物制品、制藥、注塑、印刷等行業。
更新時間:2025-09-18
總鎳在線監測儀是技術上基于中國標準方法gb11910-89而研制的新一代全自動水中總鎳在線分析儀，該產品是慕迪科技在多年水質分析類產品研究基礎上推出的一系列免維護在線監測儀。
更新時間:2025-09-18
它適用于樣水中微量硅酸根、磷酸根、鐵、銅、聯氨、全鐵、余氯、氨等元素的定量測定。 廣泛的運用火力發電廠除鹽水蒸汽、 凝結水爐水及化工、制藥等行業。
更新時間:2025-09-18
xf806-rcm-10混凝土氯離子擴散系數測定儀是我公司自主開發的檢驗混凝土的長期性耐久性性能的儀器,此儀器完全符合gb/t 50082-2009標準。
更新時間:2025-09-18
總鋅在線監測儀是技術上基于中國標準方法而研制的新一代全自動水中總鋅在線分析儀。經過預處理的水樣由注射泵注入到一個特殊反應器中后首先與酸性氧化劑進行反應，將水樣中所有形態的鋅統一氧化成二價鋅離子，接著調整溶液的ph值，后加入特性顯色劑進行顯色反應，在測量范圍內，其顏色的改變程度與水樣中的總鋅濃度成正比，通過測量顏色變化的程度，就可以計算出水樣中總鋅的含量。
更新時間:2025-09-18
小型臺式離子風機，具有出眾的除靜電性能，防止靜電污染及破壞。是電子產品生產，維修臺等個人型靜電防護區域的理想設備。
更新時間:2025-09-18
全自動真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導電處理優勢看得見：雙路氣體接入兩種氣體自由接入；全自動手動雙模式，全自動手動雙模式，即可一鍵工作，也可自由設定；真空腔體加厚，真空腔體加厚可承受更大的真空度；人機界面觸控屏，人機界面觸控屏，方便操作，減少控制失誤。
更新時間:2025-09-18
全自動真空離子濺射儀噴金儀 直流濺射鍍膜導電處理優勢看得見：雙路氣體接入兩種氣體自由接入；全自動手動雙模式，全自動手動雙模式，即可一鍵工作，也可自由設定；真空腔體加厚，真空腔體加厚可承受更大的真空度；人機界面觸控屏，人機界面觸控屏，方便操作，減少控制失誤。
更新時間:2025-09-18
q150t es plus高真空離子濺射鍍膜儀裝在一個堅固的特制整體成型機箱中，包括空氣冷卻的70l/s渦輪分子泵。自動進氣控制保證了鍍膜期間最佳的真空條件。
更新時間:2025-09-16
q150r es plus離子濺射/碳蒸發一體化鍍膜儀適用于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），標配一塊金靶，也可選配金、銀、鉑、鈀、金/鈀合金及鉑/鈀合金等金屬靶；以及為eds樣品鍍制碳膜。（對于易氧化金屬的濺射鍍膜或需鍍制tem碳支持膜，請選購q150t plus系列高真空鍍膜儀）
更新時間:2025-09-16
日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm
更新時間:2025-09-16
廣州儀弘it-10固體負離子測試儀it-10采用美國最先進的gm射線離子探測技術，來測量從天然礦石、陶瓷、電氣石等所產生的微弱放射線能量，通過大量實驗數據積累和精密的換算，將放射線能量運用最先進的處理程序換算成負離子數量，此方法可以得到非常精準的測量。
更新時間:2025-09-16
卷繞式濺射設備spw系列spw系列設備，是可在塑料薄膜上進行光學膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設備。實施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
更新時間:2025-09-09
濺射鍍膜設備smd系列（立式）smd 系列是鍍金屬膜、ito、igzo、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅smd系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各樣的生產環境下運轉。及時反映從生產現場聽取的意見，進一步提高設備的可靠性。
更新時間:2025-09-09
日立高新磁控濺射器mc1000日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描
更新時間:2025-08-26
桌面式濺射儀kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動樣品擋板，可調節濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲存等功能，方便快捷。
更新時間:2025-08-22
桌面式小型濺射儀kt-z1650pvd磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（pvd）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。
更新時間:2025-08-22
桌面式磁控濺射儀kt-z1650pvd，外形小巧方便移動，觸摸屏控制工藝記憶儲存，自動電動擋板閥保護樣品，石英腔室更加潔凈方便清潔。
更新時間:2025-08-22
自動的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的導電噴鍍效果。通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。操作容易快捷，可全自動或手動進行噴鍍操作，控制的參數包括自動放氣以及氬氣換氣控制。在自動模式下，可通過兩種方式進行控制鍍膜過程。可通過數字顯示器控制得到可重現的噴鍍效果。可配備mtm-10高分辨膜厚監控儀（選件）(分辨率優于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。可使用多種金屬靶材：au， au/pd,，pt,，pt/pd，ag等，靶材更換快速方便。
更新時間:2025-08-21
英國cressington高性能離子濺射儀系統是現階段配套掃描電鏡sem，透射電鏡tem和電子探針最佳的配套前級樣品導電處理系統以及均勻高質量的電極薄膜制備，溢鑫科創yi xin technology是cressington在中國唯一官方授權代表，全權負責此產品在國內產品銷售，售后服務，市場推廣和授權等工作。
更新時間:2025-08-21
專利冷態鍍膜設計使用真正的“平衡磁控管”沒有等離子體電流在樣品，在得到高分辨非晶鍍膜層同時避免樣品受到熱損傷，對熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合
更新時間:2025-08-21
分子泵超高分辨非晶層鍍膜，電鏡放大倍率可到300k也不會看到鍍膜顆粒，非常適合于現階段超高分辨場發射電鏡或雙束電鏡，電子探針等，如 fei nova, megglen, verios, helios等， 日立電鏡的su80000， su8200, s4800， 9000系列等， 日本電子 7600f, 7800f等， 蔡司的merlin, ultra, gemini, auriga系列等。
更新時間:2025-08-21
新一代鍍膜儀-ems q150r 型鍍膜儀（真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）采用最新技術研制而成，彩色觸摸液晶屏，快速的參數輸入，數種碳絲匹配，友好的用戶界面，帶給你不一般的操作感受！
更新時間:2025-08-21
nsc-3000（m）磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-08-21
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-08-21
nsc-4000（a）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-08-21
nsc-1000磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉平臺，最大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內可以達到10-6 torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-08-21
金華杰維修 shimadzu turbo pump controllers日本島津ei/fti全系列渦輪分子泵控制器、磁懸浮分子泵控制器，分子泵電源，分子泵驅動器，經驗豐富，檢測設備齊全，技術可靠，有多種型號備用分子泵及控制器，分子泵維修配件，二手分子泵（中古泵浦）并免費提供相關技術支持。
更新時間:2025-08-18
自 1995 年以來，sindlhauser materials 一直在為各地的工業公司提供種類繁多的涂層材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或結合稀土金屬制成的濺射靶材，以及金屬和合金。該公司還支持使用等離子技術為各種產品鍍膜的行業運營。
更新時間:2025-08-13
緊湊型、模塊化和智能化ccu-010 lv_ct-010為一款結構緊湊、全自動型的熱蒸發鍍碳設備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設計，可選通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射設備。在鍍膜之和/或之后，可以進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免交叉污染。ccu-010系列鍍膜儀標配膜厚監測裝置。
更新時間:2025-08-05
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