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ID-106工業顯微鏡

廣泛應用于半導體,電子工業進行晶體,集成電路的檢驗和科學研究。配備有反射照明，偏光裝置，可連接照相。

● 無限遠光學系統,管鏡焦距200mm

● 鉸鏈式三目鏡筒,30°傾斜，瞳距55-75mm

● 高眼點、大視場目鏡WF10X/22

● 五孔物鏡轉換器

● 長工作距離平場復消色差物鏡

Plan Apo 2X/0.055  W.D. 34.6mm 分辨率5μm,

Plan Apo 5X/0.14   W.D. 45mm 分辨率2μm,

Plan Apo 10X/0.28  W.D. 34mm 分辨率1μm,

Plan Apo 20X/0.29 W.D. 30.8mm 分辨率1μm

Plan Apo 50X/0.42 W.D. 20.5mm 分辨率0.7μm

● 五孔物鏡轉換器

● 150mmx150mm（6"x6"）雙層活動平臺和圓平臺，主要

的特點是用了尼康三角鋼絲和圓柱滾珠，從而在設計

和材料上其平穩和精度要求。

● 同軸粗微調焦機構,微動格值0.002mm

● 冷光源光纖反射照明器：12V150W，特別明亮清晰，

對黑色、深色表面不反光工件塑料、橡膠、碳化物金

屬等，亦可清晰

技術指標：

光學系統 UIS2光學系統（無限遠校正光學系統） 顯微鏡鏡體 2個引導齒輪和齒條的機構Z軸同軸粗微調調焦，載物臺行程范圍: 32 mm（從焦面上行2 mm和下行30 mm）行程相同: 15 mm（配合透射光照明）Z軸微調焦每旋轉一周的行程0.1 mm（1個單位1μm）調焦機構張力可調有調焦上限位機構 照明系統 BX-RLA2 明視場/暗視場照明器 BX-URA2 萬能照明器   觀察方式轉換 明視場-暗視場滑塊轉換法 分光鏡組（最多6個）換鏡旋座 可適用觀測模式 1、明視場法2、暗視場法3、諾曼爾斯基微分干涉襯比法4、偏振光照明法5、紅外光 1、明視場法2、暗視場法3、諾曼爾斯基微分干涉襯比法4、偏振光照明法5、熒光照明法 光源 12V100W 瓦鹵素燈燈座: U-LH100L-3 水銀燈: U-LH100HGAPO需配備U-RFL-T 外接電源電源整合在MX51顯微鏡中 透射照明 明視場MX-TILLK照明燈，配備光纖照明附件（MX-TILLK須與MX-SIC6R2配合使用） 電源供應部件 額定電壓: 100-120/220-240V~1.8A/0.8A 50/60Hz連續式亮度調節盤 觀察鏡筒 U-BI30-2 寬場雙目鏡筒, U-TR30-2 寬場三目鏡筒, U-ETR4 寬場正像三目鏡筒（F.N. 22）U-SWTR-3 超寬場三目鏡筒, MX-SWETTR/U-SWETTR-5 超寬場正像傾斜式三目鏡筒（F.N. 26.5） 物鏡換鏡 U-5RE-2, U-6REU-D5BDRE, U-D6BDRE, U-P5BDRE （帶有微粉干涉襯比法棱鏡滑槽） 載物臺 U-SIR2/SIC4L2 同軸右/左手控制4英寸×4英寸載物臺驅動方法:齒輪/齒條Y 軸止動器: 手柄調節 MX-SIC6R2 同軸右/左手控制6英寸×6英寸載物臺驅動方法:傳動帶式行程:158（X軸）×158（Y軸）mm聯動方法: 離合（內置離合開關手柄）托架尺寸: 200 x 200mm透過觀察范圍: 100 x 100mm 體積與重量 體積: 約430（寬）×591（長）×495（高）mm 重量: 約26kg （顯微鏡鏡體約重11kg）  

SJ2004連續變倍數碼顯微鏡，實用型數碼／視頻顯微系統。是針對工業品檢，觀測識偽而開發的顯微放大設備。其中包含了獨有的消雜光大景深專利技術，廣泛適用于電子、模具、粉末冶金、精密機械、珠寶、鐘表、飾品、指紡鑒別、票證識偽、印刷、光纖、手機維修、考古、技術監督等領域。配合使用專業開發的測量、測繪、模式識別等多種軟件，圖像和數據直入Photoshop、CAD，輕松而簡單

 MA1001反射式工業檢測顯微鏡