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HM1000日立熱電離質譜儀HM1000 RoHS2.0應對

日立熱電離質譜儀HM1000 RoHS2.0應對主要特點:

迅速地檢查 : 1個樣品的短測量時間為10分鐘以內!

氣化后的化合物，可直接進行質量分析，從而實現了高速測量.

8小時內可以連續自動測量50個樣品利用自動進樣器（標準搭載），只需點擊測量按鈕，多可以連續自動測量50個樣品。測量進行中也可以準備下一個需要測量的樣品以及其他業務，因此，提高了業務效率，還減輕操作人員的工作量。

從樣品提取到測量，操作非常簡單!切下適量的樣品放在樣品杯內，將其置于樣品托盤上。之后進行簡單地軟件操作，利用自動進樣器開始進行自動測量。在軟件操作屏幕上顯示樣品圖像，可以隨時確認連續測量的進展情況和判定結果(OK/NG)。

低運行成本載體氣體使用的是氮氣。依靠氣體發生器（現地采購品），僅配置電源就可以方便使用。免除氦氣，液氮等的使用和管理，持續降低了運行成本。

日立高新技術以成為深受客戶信賴的企業為目標，通過開展基于高新技術解決方案的"創造價值"為基礎的事業活動，為社會的發展進步貢獻力量。本公司在本著"公正透明"的誠信理念進行經營活動，在實現持續成長的同時，也充分重視在環保上與"環境的協調"。作為充滿熱情和自豪感的企業市民，為實現富裕的社會盡自己的力量。

以成為高新技術解決方案域的全球一流企業為目標。

事業方針

以客戶為的宗旨，提供能優先滿足市場需求的佳解決方案，和客戶一起成長。
利用高端技術開發能力和商社的互助優勢，為全球化社會的價值創造作出貢獻。
確立以人才和技術經營資源為核心的信賴感和優地位，從而實現企業價值的大化。

經營管理方針

徹底貫徹信息公開，進行高透明性的經營活動。
作為企業市民，重視環境保護，承擔社會責任。
遵守法律的提下，進行企業活動。

企業文化方針

尊重每一位員工的能力，使公司成為積的富有挑戰性的公司。
明朗、開放的公司氛圍。
成為能進行高效率的具有團隊合作精神的公司。

該公司產品分類：陶瓷配件測長儀小量具計量儀器東京精密測針東精精密三坐標大阪精密齒輪嚙合儀視覺檢測 X射線熒光光譜分析儀粗糙度儀輪廓儀日立熱電離質譜儀美國施泰力立式桌面投影儀VB400 美國施泰力立式桌面投影儀美國施泰力自動影像測量系統AVR300 日本日立射線熒光分析儀日本島津動平衡試驗機三坐標圓度儀

上海伯東美國KRi 霍爾離子源 eH 系列,真空鍍膜離子源

價格貨期電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

美國 KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等的細微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半導體應用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區. 整體易操作, 易維護. 霍爾離子源 eH 提供一套完整的方案包含離子源, 電子中和器, 電源供應器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各類真空設備中, 例如鍍膜機, load lock, 濺射系統, 卷繞鍍膜機等.美國 KRI 霍爾離子源 eH 特性無柵高電流低能量發散光束 >45可快速更換陽模塊可選 Cathode / Neutralize 中和器美國 KRI 霍爾離子源 eH 主要應用輔助鍍膜 IBAD濺鍍&蒸鍍 PC表面改性、激活 SM沉積 (DD)離子蝕刻 LIBE光學鍍膜Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如1. 離子輔助鍍膜及電子槍蒸鍍2. 線上式磁控濺射及蒸鍍設備預清洗3. 表面處理4. 表面硬化層鍍膜5. 磁控濺射輔助鍍膜7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜

美國 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 霍爾離子源 eH 系列在售型號:

型號	eH400	eH1000	eH2000	eH3000	eH Linear
中和器	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC	F
陽電壓	50-300 V	50-300 V	50-300 V	50-250 V	50-300 V
離子束流	5A	10A	10A	20A	根據實際應用
散射角度	>45	>45	>45	>45	>45
氣體流量	2-25 sccm	2-50 sccm	2-75 sccm	5-100 sccm	根據實際應用
本體高度	3.0“	4.0“	4.0“	6.0“	根據實際應用
直徑	3.7“	5.7“	5.7“	9.7“	根據實際應用
水冷	可選	可選	是	可選	根據實際應用

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.若您需要進一步的了解 KRI 霍爾離子源, 請參考以下聯絡方式上海伯東: 葉小姐臺灣伯東: 王小姐T: +86-21--3511 ext 109 T: +886-3--9508 ext 161F: +86-21-- F: +886-3--0049M: +86 -883- M: +886---958上海伯東版權所有, 翻拷必究！

該公司產品分類：美國 KRi 考夫曼品牌離子源鍍膜機,蝕刻機真空泵檢漏儀,氣體分析儀德國 Pfeiffer 真空設備

WF 1974有機質譜儀

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該公司產品分類：色譜一級

液相色譜/飛行時間質譜儀

——極高的靈敏度及質量度——利血平檢測限達500 attomoles——質量度達5 ppm ——質量范圍1-6000 m/z——界面種類：低流速電噴霧0.1 mL/min –2mL/min 、高流速電噴霧10 mL/min –1.0 mL/min及APCI 10 mL/min –1.5 mL/min——采集速度可高至100個全程質譜圖/秒

2-硝基苯基正辛醚[快原子轟擊質譜和二次離子質譜儀的基質]

上海滬宇是一家技術服務型渠道企業,在行業發展中所承擔的角色是一種溝通產出方和需求方(科研和市場)的媒介，我們為行業人才提供了包括科研在內的更多出口，為科研提供了有力的硬件支持，地促進科研和市場需求結合，提高了科研成果的轉化效率，使得科研更具活力。目前國家對于生物行業的發展給予了極大的重視，但更多地側重于科研的投入，行業內缺乏的技術服務體系和渠道支撐。詳細信息請登錄www.huyusw.com網站查詢，也可來電在線咨詢！

產品名稱：2-硝基苯基正辛醚[快原子轟擊質譜和二次離子質譜儀的基質]

產品編號：K7373201

CAS號：37682-29-4

規格：TCI

包裝：5ml

上海滬宇生物試劑產品：

C109740250 2-氯-5-硝基吡啶 Acros 25gTC092301 2-氯-5-硝基三氟甲苯 TCI 25gxw010085 2-氯-5-溴吡啶 98％(沃凱) 1gTA195901 2-氯-6- TCI 25gL1124902 57264-46-7 2-氯-6-甲基芐胺, 97% Lancaster 5gxw010086 2-氯-6-三氟甲基吡啶 98％(沃凱) 1gLB2402903 2-氯-P-苯二胺硫酸鹽 Alfa-B24029 250gTC171901 2-氯苯并咪唑 TCI 5g80034828 95-57-8 2-氯苯酚 CP 500mlLA1190001 2-氯苯甲基氯, 98％ Alfa-A11900 250gAC2479501 2-氯苯甲腈 Aldrich 98％ 100gL0695201 2-氯苯甲醚，98％ Lancaster 50g30038782 89-98-5 2-氯苯甲醛進分 100ml

K7373201 37682-29-4 2-硝基苯基正辛醚[快原子轟擊質譜和二次離子質譜儀的基質] TCI 5ml

該公司產品分類：標準物質農藥標準品標準品人ELISA檢測試劑盒大鼠酶聯免疫試劑盒其他ELISA試劑盒牛ELISA檢測試劑盒猴ELISA試劑盒供應商鴨ELISA試劑盒廠商魚elisa試劑盒組成山羊elisa試劑盒保存條件進口原裝馬elisa試劑盒貓elisa試劑盒促銷 48T裸鼠elisa試劑盒 96T倉鼠elisa試劑盒 48T/96T綿羊試劑盒植物維生素ELISA試劑盒兔子白介素ELISA試劑盒豚鼠elisa試劑盒豬elisa試劑盒報價