光學平臺產品及廠家
微光綜合測試儀是種精密的光學檢測設備。適用于各種視場和潛望高度的微光夜視儀，該儀器可以完成對各種微光夜視儀器的大部或全部光學性能的測試。
更新時間:2025-09-18
光具座是種通用性強，用途廣泛的光學測試儀器，它主要應用于照相物鏡系統、望遠系統及各類光學零件等光學幾何參數的測量及其成像質量的評定，還可以應用于對棱鏡的角度進行測量。儀器帶有多種附件，適用于光學零件及光學儀器生產過程的質量檢驗及科研教學中使用。
更新時間:2025-09-18
光學透鏡采用磁吸式，可以吸附在鐵板上，中間圓盤可以通過后面的旋鈕360度旋轉，五線光源采用5個開關控制，線條可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新時間:2025-09-18
本系列隔振平臺臺面材料為不銹鋼10.2碳鋼10.6，精磨加工后精飾處理，臺面的平整度、光潔度極佳。其上陣列的標準孔距螺紋孔便于固定各種調整架，通過磁力可直接固定磁性底座。特殊規格接受定制。
更新時間:2025-09-18
該儀器具有不銹鋼加平臺. 0-110℃自動控溫, 加速點樣溶劑揮發，使斑點直徑縮小一半,提高分離效果.電動控制壓針點樣,行程60毫米,克服點樣抖動產生,薄層凹陷,提高板效.
更新時間:2025-09-18
:led（light emitting diode），半導體發光二極管，是一種固態的半導體器件，它可以直接把電轉化為光，以其低功耗，高效率，高穩定型等特點在照明、光通信等領域逐步替代傳統光源。對led的各項參數的理解與測試方式的掌握是開發應用此類器件的基礎。采用新光電器件及現在工業廣泛應用的測試方法開發的此套教學實驗產品適用于光電專業本科生基礎光電實驗及高職院校學生實訓課程。
更新時間:2025-09-18
本實驗裝置是基于國家大學生創新實驗項目和競賽項目的基礎上改進完善提高后定型的。是結合了智能家居、智能樓宇的設計理念，融合光電技術、物聯網技術，嵌入式技術等等為一體的綜合性設計開發平臺，該裝置設計理念先進，科技含量高，綜合性強，屬于多學科交叉的實驗儀器，實驗設計平臺的各個部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關的基礎實驗，又有利用無線組網傳感、手機遠程
更新時間:2025-09-18
lite （for toxirae 3）自動標定平臺autorae 自動標定系統可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電̶
更新時間:2025-09-18
自動標定平臺品 說 明 autorae 自動標定系統可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電• 簡單的按鍵操作• 無需連接計算機• 標定和測試結果數據直接打印
更新時間:2025-09-18
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機械系統（mems）、 先進封裝以及納米技術市場的各種工藝要求。考慮到研究和生產的市場發展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時間:2025-09-17
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機，市場應用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發，通過打造質量滿足生產需求。
更新時間:2025-09-17
英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統，是門設計用于手套箱集成使用的鍍膜設備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應用要求。該系統配了一個特殊結構的真空腔室，可直接與市場上大多數手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關，嵌入手套箱內，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關，能在不影響手套箱內氣氛的情況下輕松維護腔室內工藝組件。
更新時間:2025-09-17
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設備，設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto306可配備各種真空系統、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術以滿足現代化實驗室的需要。
更新時間:2025-09-17
tf500/tf600 適合先進研發和試生產的全功能系統，系統配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統都可以安裝多個鍍膜源，也都支持離子束處理選項。有一系列預進樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時間:2025-09-17
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機，最新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備，配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導體、led、mems等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。
更新時間:2025-09-17
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個樣品座，樣品室幾何可變，寬范圍的操作壓力，緊湊、現代的桌上型設計，操作容易。
更新時間:2025-09-17
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統，該系統同時使用8只換能器，能最大限度的確保快速圖像采集和高效能。
更新時間:2025-09-17
日本jeol熱場發射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發揮其佳性能。
更新時間:2025-09-17
日本jeol熱場發射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發揮其佳性能。
更新時間:2025-09-17
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統。通過與sem的馬達驅動樣品臺聯動使用，可以進行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進行微區的點分析、線分析及面分析。
更新時間:2025-09-17
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機型。 從設定視野到生成報告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時間:2025-09-17
日本jeol 熱場發射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學系統應用了日本電子旗艦機-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術，標配了ttls系統（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統機型有了很大的提升。
更新時間:2025-09-17
新一代超高精度電子束光刻機 p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場拼接精度，電子束閉環控制系統，束流的時間及空間穩定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機。
更新時間:2025-09-17
opticool超精準全開放強磁場低溫光學研究平臺，系統擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達±7t的磁場。多達7個側面窗口、1個頂部超大窗口方便光線由各個方向引入樣品腔，高度集成式的設計讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時擺脫大型低溫系統的各種束縛。
更新時間:2025-09-17
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設計。利用標配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應的光學部件即可實現不同功能之間的切換。
更新時間:2025-09-17
德國sentech光伏測量儀mdpmap，靈活的自動掃描系統，是專為半導體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設計的。mdpmap能夠連續地改變激發脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩態測量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動力學和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規測量以及復雜的研發應用。
更新時間:2025-09-17
100s接觸角測量儀是采用光學成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能，設備性價比高、功能全面、可滿足各種常規測量需要。
更新時間:2025-09-17
德國kruss標準型dsa25接觸角測量儀，接觸角測量范圍：0-180，接觸角測量精度：±0.10，表界面張力測量范圍：0-1000mn/m；測量精度：0.01 mn/m
更新時間:2025-09-17
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2025-09-17
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機，采用 dmd 作為數字掩模，像素數 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2025-09-17
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數字掩模，像素數 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2025-09-17
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機,,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調節光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非常可靠，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-09-17
ure-2000/35 型紫外單面光刻機,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調節光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非常可靠，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-09-17
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機,曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長）
更新時間:2025-09-17
ure-2000/17 型紫外單面光刻機（臺式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對準精度：±1μm
更新時間:2025-09-17
ure-2000/25 型紫外單面光刻機，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對準精度：± 0.8μm
更新時間:2025-09-17
日本rion粒子計數器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，工廠標配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新時間:2025-09-17
日本rion氣體粒子計數器：kl-30a ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，出廠設置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2025-09-17
最新產品
- @市場推送901E-2531 32PT 2025/9/20 21:49:10
- 主推MR-J4-60B 2025/9/20 21:48:15
- @商務主推ABE6SH4511 2025/9/20 21:47:17
- 推出85115702Z069 2025/9/20 21:46:36
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- @商務主推XS16SI 85069 2025/9/20 21:42:58
- 推選45ASR-1JPB3-F4 2025/9/20 21:42:09
- 南京停車場劃線設計 車位劃線，熱熔劃線，納米硅劃線，地下車庫劃線 2025/9/20 21:41:17
- 推出750-610 2025/9/20 21:39:24
- 現貨DST1-ID12SL-1 2025/9/20 21:38:31
- @采購推選8719NH.00305 2025/9/20 21:37:46
- 推選V-RFM-20A HP02292A HP02293A HP02294A 2025/9/20 21:36:56
- 推出1746-OB16 2025/9/20 21:34:12
- 推送HG-KR43BJ 2025/9/20 21:33:25
- @市場推選PIB 651A-1500-3.3 KV/L 1343 2025/9/20 21:32:43
- 推送6ES7541-1AD00-0AB0 2025/9/20 21:31:56
- @市場推選SC26-2DE 85068 2025/9/20 21:29:05
- @商務主推V7768-322000 / GE CPU BOARD 2025/9/20 21:28:21
- 推出S-P11 XSC1-011 2025/9/20 21:27:44
- 現貨EE-SX675 2025/9/20 21:27:11
- 推出SGMPH-04AAA61D 2025/9/20 21:24:22
- 現貨HC-KFS053 2025/9/20 21:23:34
- @商務推出AT-1575-AES 2025/9/20 21:22:49
- @市場推選202552/01-8-01-4-4-03-23/000 2025/9/20 21:22:01
- 現貨6DD1611-0AD0 2025/9/20 21:19:11
- 推出2004_RF15BR1AS3 2025/9/20 21:18:20
- 推出557.202.047 2025/9/20 21:17:44
- @商務主推2464-SX(FA) 7PX25AWG(40/0.08) 2025/9/20 21:16:48
- @市場推選TI24 TrueView? 2025/9/20 21:14:15