光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家
磁力滑座、一維、二維、三維工作臺及調(diào)整架，光學(xué)元件，氦氖激光器等附件組成，配有精制工作臺，可開26項光學(xué)實驗
更新時間:2025-09-18
本系列隔振平臺臺面材料為不銹鋼10.2碳鋼10.6，精磨加工后精飾處理，臺面的平整度、光潔度極佳。其上陣列的標(biāo)準(zhǔn)孔距螺紋孔便于固定各種調(diào)整架，通過磁力可直接固定磁性底座。特殊規(guī)格接受定制。
更新時間:2025-09-18
該儀器具有不銹鋼加平臺. 0-110℃自動控溫, 加速點樣溶劑揮發(fā)，使斑點直徑縮小一半,提高分離效果.電動控制壓針點樣,行程60毫米,克服點樣抖動產(chǎn)生,薄層凹陷,提高板效.
更新時間:2025-09-18
采用優(yōu)質(zhì)鋁合金精加工而成，厚度：13mm，平面度：不大于0.02mm/m2 ，m6螺孔，孔距：50mm或25mm
更新時間:2025-09-18
:led（light emitting diode），半導(dǎo)體發(fā)光二極管，是一種固態(tài)的半導(dǎo)體器件，它可以直接把電轉(zhuǎn)化為光，以其低功耗，高效率，高穩(wěn)定型等特點在照明、光通信等領(lǐng)域逐步替代傳統(tǒng)光源。對led的各項參數(shù)的理解與測試方式的掌握是開發(fā)應(yīng)用此類器件的基礎(chǔ)。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應(yīng)用的測試方法開發(fā)的此套教學(xué)實驗產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎(chǔ)光電實驗及高職院校學(xué)生實訓(xùn)課程。
更新時間:2025-09-18
本實驗裝置是基于國家大學(xué)生創(chuàng)新實驗項目和競賽項目的基礎(chǔ)上改進完善提高后定型的。是結(jié)合了智能家居、智能樓宇的設(shè)計理念，融合光電技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)，嵌入式技術(shù)等等為一體的綜合性設(shè)計開發(fā)平臺，該裝置設(shè)計理念先進，科技含量高，綜合性強，屬于多學(xué)科交叉的實驗儀器，實驗設(shè)計平臺的各個部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關(guān)的基礎(chǔ)實驗，又有利用無線組網(wǎng)傳感、手機遠程
更新時間:2025-09-18
lite （for toxirae 3）自動標(biāo)定平臺autorae 自動標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標(biāo)定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標(biāo)定• 自動回讀測試• 自動充電̶
更新時間:2025-09-18
自動標(biāo)定平臺品 說 明 autorae 自動標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標(biāo)定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標(biāo)定• 自動回讀測試• 自動充電• 簡單的按鍵操作• 無需連接計算機• 標(biāo)定和測試結(jié)果數(shù)據(jù)直接打印
更新時間:2025-09-18
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機械系統(tǒng)（mems）、 先進封裝以及納米技術(shù)市場的各種工藝要求？紤]到研究和生產(chǎn)的市場發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時間:2025-09-17
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機，市場應(yīng)用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
更新時間:2025-09-17
英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設(shè)計用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護腔室內(nèi)工藝組件。
更新時間:2025-09-17
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設(shè)備，設(shè)計用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實驗技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。
更新時間:2025-09-17
tf500/tf600 適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統(tǒng)都可以安裝多個鍍膜源，也都支持離子束處理選項。有一系列預(yù)進樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時間:2025-09-17
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機，最新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設(shè)備，配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、led、mems等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應(yīng)用的批次處理。
更新時間:2025-09-17
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個樣品座，樣品室?guī)缀慰勺，寬范圍的操作壓力，緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計，操作容易。
更新時間:2025-09-17
oai 6000 fsa 全自動上側(cè)或后側(cè)光刻機,具有完全自動化的亞微米分辨率的頂側(cè)或背側(cè)對齊，提供無與倫比的性價比。
更新時間:2025-09-17
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時使用4只換能器
更新時間:2025-09-17
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時使用8只換能器，能最大限度的確？焖賵D像采集和高效能。
更新時間:2025-09-17
ksi v400e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，是實驗室、研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線主流機型。
更新時間:2025-09-17
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時間:2025-09-17
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時間:2025-09-17
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達驅(qū)動樣品臺聯(lián)動使用，可以進行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進行微區(qū)的點分析、線分析及面分析。
更新時間:2025-09-17
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機型。 從設(shè)定視野到生成報告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時間:2025-09-17
日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術(shù)，標(biāo)配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機型有了很大的提升。
更新時間:2025-09-17
新一代超高精度電子束光刻機 p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機。
更新時間:2025-09-17
opticool超精準(zhǔn)全開放強磁場低溫光學(xué)研究平臺，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達±7t的磁場。多達7個側(cè)面窗口、1個頂部超大窗口方便光線由各個方向引入樣品腔，高度集成式的設(shè)計讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時間:2025-09-17
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設(shè)計。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應(yīng)的光學(xué)部件即可實現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時間:2025-09-17
德國sentech光伏測量儀mdpmap，靈活的自動掃描系統(tǒng)，是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設(shè)計的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時間:2025-09-17
100s接觸角測量儀是采用光學(xué)成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能，設(shè)備性價比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。
更新時間:2025-09-17
德國kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測量儀，接觸角測量范圍：0-180，接觸角測量精度：±0.10，表界面張力測量范圍：0-1000mn/m；測量精度：0.01 mn/m
更新時間:2025-09-17
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2025-09-17
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2025-09-17
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2025-09-17
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機,,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-09-17
ure-2000/35 型紫外單面光刻機,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非？煽，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2025-09-17
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機,曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長）
更新時間:2025-09-17
ure-2000/17 型紫外單面光刻機（臺式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對準(zhǔn)精度：±1μm
更新時間:2025-09-17
ure-2000/25 型紫外單面光刻機，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對準(zhǔn)精度：± 0.8μm
更新時間:2025-09-17
日本rion粒子計數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，工廠標(biāo)配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新時間:2025-09-17
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30a ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2025-09-17
日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30b ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2025-09-17
日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-51( 光散射方式）,大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-17
日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-52( 光散射方式）,粒徑范圍：5個通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-17
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-02( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（2個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-17
最新產(chǎn)品
- Atosiban acetate (Standard) 2025/9/22 15:25:32
- 2’-Deoxyguanosine-15N5 2025/9/22 15:25:08
- 玉米螟監(jiān)測設(shè)備 2025/9/22 15:20:09
- 2’-Deoxyguanosine-d13 2025/9/22 15:24:44
- 2’-Deoxyguanosine-13C10 2025/9/22 15:24:20
- 2’-Deoxyguanosine-13C,15N2 2025/9/22 15:23:56
- 2’-Deoxyguanosine (Standard) 2025/9/22 15:23:32
- ZLN005-d4 hydrochloride 2025/9/22 15:23:08
- 人肺動脈內(nèi)皮細(xì)胞HPAEC ATCC細(xì)胞 2025/9/22 15:18:18
- Losartan-d6 hydrochloride 2025/9/22 15:22:44
- 玉米大斑病在線監(jiān)測系統(tǒng) 2025/9/22 15:17:35
- Clarithromycin-d3 2025/9/22 15:22:20
- Pantoprazole-d4 2025/9/22 15:21:55
- Pantoprazole-d8 2025/9/22 15:21:31
- Rosuvastatin-13C,d3 sodium 2025/9/22 15:21:07
- Rosuvastatin-d6 2025/9/22 15:20:43
- Metoprolol-d6 succinate 2025/9/22 15:20:19
- Atenolol-13C6 2025/9/22 15:19:55
- Atenolol-d6 2025/9/22 15:19:31
- mPEG-DPPE (MW 5000) 2025/9/22 15:19:07
- mPEG-DPPE (MW 1000) 2025/9/22 15:18:43
- 臥式半自動可樂瓶打包機廠家銷售 2025/9/22 15:13:34
- 4-Arm-PEG-Silane (MW 20000) 2025/9/22 15:18:19
- SANYO DENKI SanAce40 109P0424K702 109P0424K703 三洋散熱風(fēng)扇 2025/9/22 15:13:14
- 4-Arm-PEG-Silane (MW 10000) 2025/9/22 15:17:55
- 4-Arm-PEG-Silane (MW 5000) 2025/9/22 15:17:31
- 4-Arm-PEG-Silane (MW 2000) 2025/9/22 15:17:07
- Silane-PEG-N3 (MW 10000) 2025/9/22 15:16:42
- 蝗蟲捕捉器 2025/9/22 15:11:32
- Silane-PEG-N3 (MW 5000) 2025/9/22 15:16:18