光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家
微光綜合測(cè)試儀是種精密的光學(xué)檢測(cè)設(shè)備。適用于各種視場(chǎng)和潛望高度的微光夜視儀，該儀器可以完成對(duì)各種微光夜視儀器的大部或全部光學(xué)性能的測(cè)試。
更新時(shí)間:2025-09-18
光具座是種通用性強(qiáng)，用途廣泛的光學(xué)測(cè)試儀器，它主要應(yīng)用于照相物鏡系統(tǒng)、望遠(yuǎn)系統(tǒng)及各類光學(xué)零件等光學(xué)幾何參數(shù)的測(cè)量及其成像質(zhì)量的評(píng)定，還可以應(yīng)用于對(duì)棱鏡的角度進(jìn)行測(cè)量。儀器帶有多種附件，適用于光學(xué)零件及光學(xué)儀器生產(chǎn)過程的質(zhì)量檢驗(yàn)及科研教學(xué)中使用。
更新時(shí)間:2025-09-18
光學(xué)透鏡采用磁吸式，可以吸附在鐵板上，中間圓盤可以通過后面的旋鈕360度旋轉(zhuǎn)，五線光源采用5個(gè)開關(guān)控制，線條可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新時(shí)間:2025-09-18
磁力滑座、一維、二維、三維工作臺(tái)及調(diào)整架，光學(xué)元件，氦氖激光器等附件組成，配有精制工作臺(tái)，可開26項(xiàng)光學(xué)實(shí)驗(yàn)
更新時(shí)間:2025-09-18
本系列隔振平臺(tái)臺(tái)面材料為不銹鋼10.2碳鋼10.6，精磨加工后精飾處理，臺(tái)面的平整度、光潔度極佳。其上陣列的標(biāo)準(zhǔn)孔距螺紋孔便于固定各種調(diào)整架，通過磁力可直接固定磁性底座。特殊規(guī)格接受定制。
更新時(shí)間:2025-09-18
該儀器具有不銹鋼加平臺(tái). 0-110℃自動(dòng)控溫, 加速點(diǎn)樣溶劑揮發(fā)，使斑點(diǎn)直徑縮小一半,提高分離效果.電動(dòng)控制壓針點(diǎn)樣,行程60毫米,克服點(diǎn)樣抖動(dòng)產(chǎn)生,薄層凹陷,提高板效.
更新時(shí)間:2025-09-18
采用優(yōu)質(zhì)鋁合金精加工而成，厚度：13mm，平面度：不大于0.02mm/m2 ，m6螺孔，孔距：50mm或25mm
更新時(shí)間:2025-09-18
:led（light emitting diode），半導(dǎo)體發(fā)光二極管，是一種固態(tài)的半導(dǎo)體器件，它可以直接把電轉(zhuǎn)化為光，以其低功耗，高效率，高穩(wěn)定型等特點(diǎn)在照明、光通信等領(lǐng)域逐步替代傳統(tǒng)光源。對(duì)led的各項(xiàng)參數(shù)的理解與測(cè)試方式的掌握是開發(fā)應(yīng)用此類器件的基礎(chǔ)。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應(yīng)用的測(cè)試方法開發(fā)的此套教學(xué)實(shí)驗(yàn)產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎(chǔ)光電實(shí)驗(yàn)及高職院校學(xué)生實(shí)訓(xùn)課程。
更新時(shí)間:2025-09-18
本實(shí)驗(yàn)裝置是基于國(guó)家大學(xué)生創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目和競(jìng)賽項(xiàng)目的基礎(chǔ)上改進(jìn)完善提高后定型的。是結(jié)合了智能家居、智能樓宇的設(shè)計(jì)理念，融合光電技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)，嵌入式技術(shù)等等為一體的綜合性設(shè)計(jì)開發(fā)平臺(tái)，該裝置設(shè)計(jì)理念先進(jìn)，科技含量高，綜合性強(qiáng)，屬于多學(xué)科交叉的實(shí)驗(yàn)儀器，實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)平臺(tái)的各個(gè)部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關(guān)的基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)，又有利用無線組網(wǎng)傳感、手機(jī)遠(yuǎn)程
更新時(shí)間:2025-09-18
lite （for toxirae 3）自動(dòng)標(biāo)定平臺(tái)autorae 自動(dòng)標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測(cè)儀的自動(dòng)標(biāo)定、自動(dòng)回讀測(cè)試和自動(dòng)充電。支持多種型號(hào)便攜表，無需連接計(jì)算機(jī)，操作簡(jiǎn)單。 主要特點(diǎn)• 自動(dòng)標(biāo)定• 自動(dòng)回讀測(cè)試• 自動(dòng)充電̶
更新時(shí)間:2025-09-18
自動(dòng)標(biāo)定平臺(tái)品 說 明 autorae 自動(dòng)標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測(cè)儀的自動(dòng)標(biāo)定、自動(dòng)回讀測(cè)試和自動(dòng)充電。支持多種型號(hào)便攜表，無需連接計(jì)算機(jī)，操作簡(jiǎn)單。 主要特點(diǎn)• 自動(dòng)標(biāo)定• 自動(dòng)回讀測(cè)試• 自動(dòng)充電• 簡(jiǎn)單的按鍵操作• 無需連接計(jì)算機(jī)• 標(biāo)定和測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)直接打印
更新時(shí)間:2025-09-18
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機(jī)械系統(tǒng)（mems）、 先進(jìn)封裝以及納米技術(shù)市場(chǎng)的各種工藝要求。考慮到研究和生產(chǎn)的市場(chǎng)發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時(shí)間:2025-09-17
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機(jī)，市場(chǎng)應(yīng)用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術(shù)。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。
更新時(shí)間:2025-09-17
英國(guó)hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設(shè)計(jì)用于手套箱集成使用的鍍膜設(shè)備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應(yīng)用要求。該系統(tǒng)配了一個(gè)特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場(chǎng)上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動(dòng)開關(guān)，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關(guān)，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護(hù)腔室內(nèi)工藝組件。
更新時(shí)間:2025-09-17
英國(guó)hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設(shè)備，設(shè)計(jì)用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。
更新時(shí)間:2025-09-17
tf500/tf600 適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個(gè)型號(hào)的系統(tǒng)都可以安裝多個(gè)鍍膜源，也都支持離子束處理選項(xiàng)。有一系列預(yù)進(jìn)樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時(shí)間:2025-09-17
ion 100wb-40q 德國(guó) pva tepla 等離子去膠機(jī)，最新推出的具有高性價(jià)比的真空等離子去膠設(shè)備，配備了一個(gè)圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、led、mems等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應(yīng)用的批次處理。
更新時(shí)間:2025-09-17
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺(tái)控制靈活，多個(gè)樣品座，樣品室?guī)缀慰勺儯瑢挿秶牟僮鲏毫Γo湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)，操作容易。
更新時(shí)間:2025-09-17
oai 6000 fsa 全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī),具有完全自動(dòng)化的亞微米分辨率的頂側(cè)或背側(cè)對(duì)齊，提供無與倫比的性價(jià)比。
更新時(shí)間:2025-09-17
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時(shí)使用4只換能器
更新時(shí)間:2025-09-17
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器，能最大限度的確保快速圖像采集和高效能。
更新時(shí)間:2025-09-17
ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，用于研發(fā)和生產(chǎn)部門檢測(cè)特大件樣品
更新時(shí)間:2025-09-17
ksi v400e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，是實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線主流機(jī)型。
更新時(shí)間:2025-09-17
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2025-09-17
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評(píng)的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時(shí)，操作性能大簡(jiǎn)單化。該設(shè)備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。
更新時(shí)間:2025-09-17
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)聯(lián)動(dòng)使用，可以進(jìn)行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測(cè)被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進(jìn)行微區(qū)的點(diǎn)分析、線分析及面分析。
更新時(shí)間:2025-09-17
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機(jī)型。 從設(shè)定視野到生成報(bào)告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時(shí)間:2025-09-17
日本jeol 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學(xué)系統(tǒng)應(yīng)用了日本電子旗艦機(jī)-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術(shù)，標(biāo)配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機(jī)型有了很大的提升。
更新時(shí)間:2025-09-17
新一代超高精度電子束光刻機(jī) p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場(chǎng)拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時(shí)間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機(jī)。
更新時(shí)間:2025-09-17
opticool超精準(zhǔn)全開放強(qiáng)磁場(chǎng)低溫光學(xué)研究平臺(tái)，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達(dá)±7t的磁場(chǎng)。多達(dá)7個(gè)側(cè)面窗口、1個(gè)頂部超大窗口方便光線由各個(gè)方向引入樣品腔，高度集成式的設(shè)計(jì)讓您的樣品在擁有低溫磁場(chǎng)的同時(shí)擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。
更新時(shí)間:2025-09-17
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強(qiáng)磁場(chǎng)原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設(shè)計(jì)。利用標(biāo)配的控制器和樣品掃描臺(tái)，用戶僅需要更換掃描頭和對(duì)應(yīng)的光學(xué)部件即可實(shí)現(xiàn)不同功能之間的切換。
更新時(shí)間:2025-09-17
德國(guó)sentech光伏測(cè)量?jī)xmdpmap，靈活的自動(dòng)掃描系統(tǒng)，是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測(cè)量而設(shè)計(jì)的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測(cè)量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動(dòng)力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測(cè)量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-09-17
100s接觸角測(cè)量?jī)x是采用光學(xué)成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測(cè)量樣品表面接觸角、潤(rùn)濕性能、表界面張力、表面能等性能，設(shè)備性價(jià)比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測(cè)量需要。
更新時(shí)間:2025-09-17
德國(guó)kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測(cè)量?jī)x，接觸角測(cè)量范圍：0-180，接觸角測(cè)量精度：±0.10，表界面張力測(cè)量范圍：0-1000mn/m；測(cè)量精度：0.01 mn/m
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000 系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號(hào)：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000s 系列雙面光刻機(jī)，對(duì)準(zhǔn)精度：±2 mm（雙面,片厚 0.8mm），±0.8mm（單面）
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（膠厚 2μm 的正膠）
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī)，光束口徑： 650mm×650mm，對(duì)準(zhǔn)精度： ±1.5μm
更新時(shí)間:2025-09-17
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī)，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時(shí)間:2025-09-17
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動(dòng)）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動(dòng)找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國(guó)）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動(dòng)化程度很高，操作十分方便。
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動(dòng)化程度高）和高校教學(xué)科研（可靠性好，演示方便）采用自動(dòng)找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動(dòng)分離對(duì)準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進(jìn)口（德國(guó)）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制，性能非常可靠，自動(dòng)化程度很高，操作十分方便。
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長(zhǎng)）
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)（臺(tái)式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對(duì)準(zhǔn)精度：±1μm
更新時(shí)間:2025-09-17
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對(duì)準(zhǔn)精度：± 0.8μm
更新時(shí)間:2025-09-17
日本rion粒子計(jì)數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個(gè)通道，工廠標(biāo)配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新時(shí)間:2025-09-17
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-30a ( 光散射法）, 測(cè)純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時(shí)間:2025-09-17
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-30b ( 光散射法）, 測(cè)純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時(shí)間:2025-09-17
最新產(chǎn)品
- @市場(chǎng)推送901E-2531 32PT 2025/9/20 21:49:10
- 主推MR-J4-60B 2025/9/20 21:48:15
- @商務(wù)主推ABE6SH4511 2025/9/20 21:47:17
- 推出85115702Z069 2025/9/20 21:46:36
- @市場(chǎng)推選6EP1437-2BA20 2025/9/20 21:44:04
- 推出G6Q-TR2A 2025/9/20 21:43:31
- @商務(wù)主推XS16SI 85069 2025/9/20 21:42:58
- 推選45ASR-1JPB3-F4 2025/9/20 21:42:09
- 南京停車場(chǎng)劃線設(shè)計(jì) 車位劃線，熱熔劃線，納米硅劃線，地下車庫(kù)劃線 2025/9/20 21:41:17
- 推出750-610 2025/9/20 21:39:24
- 現(xiàn)貨DST1-ID12SL-1 2025/9/20 21:38:31
- @采購(gòu)?fù)七x8719NH.00305 2025/9/20 21:37:46
- 推選V-RFM-20A HP02292A HP02293A HP02294A 2025/9/20 21:36:56
- 推出1746-OB16 2025/9/20 21:34:12
- 推送HG-KR43BJ 2025/9/20 21:33:25
- @市場(chǎng)推選PIB 651A-1500-3.3 KV/L 1343 2025/9/20 21:32:43
- 推送6ES7541-1AD00-0AB0 2025/9/20 21:31:56
- @市場(chǎng)推選SC26-2DE 85068 2025/9/20 21:29:05
- @商務(wù)主推V7768-322000 / GE CPU BOARD 2025/9/20 21:28:21
- 推出S-P11 XSC1-011 2025/9/20 21:27:44
- 現(xiàn)貨EE-SX675 2025/9/20 21:27:11
- 推出SGMPH-04AAA61D 2025/9/20 21:24:22
- 現(xiàn)貨HC-KFS053 2025/9/20 21:23:34
- @商務(wù)推出AT-1575-AES 2025/9/20 21:22:49
- @市場(chǎng)推選202552/01-8-01-4-4-03-23/000 2025/9/20 21:22:01
- 現(xiàn)貨6DD1611-0AD0 2025/9/20 21:19:11
- 推出2004_RF15BR1AS3 2025/9/20 21:18:20
- 推出557.202.047 2025/9/20 21:17:44
- @商務(wù)主推2464-SX(FA) 7PX25AWG(40/0.08) 2025/9/20 21:16:48
- @市場(chǎng)推選TI24 TrueView? 2025/9/20 21:14:15